1、请教保护炔基的问题
氨基酸的侧链？什么意思，在哪个位置上，请说明清楚，最好画个结构式炔基保护基一般硅基比较多，而且易于去除
2、保护醛基常用的反应是?
答案B 羟醛缩合反 先将B 醛基加氢变成羟基，之后再氧化羟基成醛基
3、有机化学中的八个保留基是什么？
应该是有机化学中的八个保护基：
1.乙酰基(Ac)；
2.特戊酰基(Piv)；
3.硅醚保护基；
4.苄氧羰基 (Cbz)；
5.叔丁氧羰基(BOC)；
6.9-芴甲氧羰基(FMOC)；
7.苄基(Bn)；
8.对甲氧苯基(PMP)。
当多功能基有机化合物进行反应时，为使反应只发生在所希望的基团处，而避免其他基团遭受影响，此反应前将其他基团新加以保护，当反应完成后再恢复。能保护某种基团的试剂称为该集团的保护剂。为使集团受到保护，而在该集团上引入的集团称为保护基。
4、关于有机合成 基团保护的问题
羟基基团是OH， 其在有机化学反应中主要是活性质子（即H)会参与反应。 在氧化过程中， 只要OH上的H不离去， 就不会生成C=O键， 也就是说不会被氧化。在碱的作用下， 这个H也可以被碱的负离子拔去， 而碱进行其他作用的效能就消失了， 所以也要被保护。保护羟基最重要的一个方法是生成硅醚， 因为更容易脱保护。
同样， 醛酮很容易和碱加成， 例如和格氏试剂（是有机化学中的通常意义上的一种碱）发生加成。
而醛酮的α-H也很容易被碱夺取，当一个分子中有其他基团和醛酮共存时， 为避免上述过程发生， 将醛酮用缩醛或缩酮形式来保护， 使其他基团发生反应。
5、【求助】氨基BOC保护时碱的作用是什么啊？需要加多少量啊？
加碱是为了中和掉生成的酸，因为氨基在酸性条件下质子化将氨基包围起来，反应效率降低，所以加碱后可以使氨基裸露上Boc
6、关于有机合成中的一些常用保护基和位阻基团
BOC-L-苯丙氨酸(BOC-L-Phe-OH） 基团上面说了挺多的。 官能团保护：在甲苯上加邻位硝基（或其它）时，会先用磺酸基占住对位，算是保护对位；对于酮羰基和醛基的保护，大多用乙二醇和羰基反应，生成缩醛或缩酮，之后在酸性条件下水解脱保护。这两个是有机合成中较常用的，具体操作要看情况。其实调整试剂，也可以避免因基团保护而产生的繁琐操作。 至于位阻，看的是基团的体积，在空间中占位的多少，从而影响到反应试剂对底物的进攻。体积越大，位阻越大。
7、有机合成中如何保护基团
摘要:一、保护措施必须符合的要求1.只和要保护的基团发生反应,和其他基团不反应;2.反应较易进行,精制也比较容易;3.保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其他基团。二、常见的基团保护措施1.对羟基的保护在氧化时或某些在碱性条件下进行的反应中,往往要对羟基进行保护。(1)防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。如:R OH R→‘OH R—O—R‘(2)防止羟基氧化,可用酯化反应。如:2.对羧基的保护羧基在高温或碱性条件下,有时也需要保护。保护羧基最常用的是酯化反应。如:3.对不饱和碳碳键的保护碳碳双键易被氧化,对它们的保护主要是用加成反应使之达到饱和。如:4.对羰基的保护(常以信息题形式出现)羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。对羰基的保护一般采用生成缩醛或缩酮的方法。如:生成的缩醛或缩酮水解即可变成原来的醛或酮。三、应用举例例1已知下列信息:碳碳双键在一定条件下氧化可生成二元醇:醛能发生如下反应生成缩醛:缩醛比较稳定,与稀碱和氧化剂均难反应,但在稀酸中温热,会水解为原来的醛。现有如下合成路线:试回答下列问题:(1)分别写出A、B的结构简式。(2)写出反应Ⅲ的化学方程式。
8、抛光硅片可以最SEM基底吗
很多纳米管、线等都是在类似的基体上生长，然后直接SEM观察。
换句话说，只有纳米材料才会考虑用抛光硅片做样品载台。微米亚微米级别的，浪费，直接双面导电胶带粘即可。