核磁sem保护基

1、关于有机合成中的一些常用保护基和位阻基团

BOC-L-苯丙氨酸(BOC-L-Phe-OH） 基团上面说了挺多的。 官能团保护：在甲苯上加邻位硝基（或其它）时，会先用磺酸基占住对位，算是保护对位；对于酮羰基和醛基的保护，大多用乙二醇和羰基反应，生成缩醛或缩酮，之后在酸性条件下水解脱保护。这两个是有机合成中较常用的，具体操作要看情况。其实调整试剂，也可以避免因基团保护而产生的繁琐操作。 至于位阻，看的是基团的体积，在空间中占位的多少，从而影响到反应试剂对底物的进攻。体积越大，位阻越大。

2、关于核磁共振谱退结构，那个酯基-COO-我总是徘徊在-COO-和-OOC-之间，该怎么分啊？

把两个氧中间划条线分开，然后分别从两端连接基团处顺着看，一般—CO一端原本是羧基而脱去的是—OH，—O一端原本是羟基而脱去的是—H。脱去的部分结合就能生成水了。

3、抛光硅片可以最SEM基底吗

很多纳米管、线等都是在类似的基体上生长，然后直接SEM观察。
换句话说，只有纳米材料才会考虑用抛光硅片做样品载台。微米亚微米级别的，浪费，直接双面导电胶带粘即可。

4、保护基团的意义

简单说，如果不保护，可能会发生副反应。导致无法得到目标分子。

在有机合成中，对于含有多个官能团的化合物, 除特定部位或基团发生预期反应外, 还常常导致其他部位或基团发生变化, 结果不仅使得反应产物变得复杂, 而且有时还会导致所需反应的失败。最理想的合成路线是希望只在所需要的部位上发生反应，而其它部位不受任何干扰，为了解决这一问题，常常采取保护基团的策略，将作用物分子中不希望反应的敏感部位如羟基、羰基、氨基等用合适的保护基团掩蔽起来，待反应完成后再恢复原来的基团,这种方法就是有机合成中的基团保护。

举一个例子：（只是看上去很复杂，其实很简单）

比如我要用格氏试剂对绿色圈内的C=O进行加成反应，

那么红色箭头的—OH就必须保护起来，否则将是—OH与格氏试剂反应，

而不是酯基与格氏试剂反应了

5、boc保护基是什么

用饱和盐酸的乙酸乙酯脱boc，脱出来的盐酸盐固体好像不对。熔点，核磁，液质连用都不对。不过我是异丙基肼上的胺一边用boc保护的，现在想脱掉很难。楼主试出来后希望能分享一下。谢谢！

6、Cbz保护基怎么脱掉？

1，最常用的方法是氢化，一个标准大气压，用甲醇做溶剂，反应过夜。
2，溴化氢和水做溶剂，一个小时结束。

7、PG是什么保护基?

什么意思？PG是控球后卫

8、Fmoc是什么基团，怎么脱保护

胺基保护基，一般以FMOC-CL形式存在。结构如下：

Fmoc保护基的一个主要的优点是它对酸极其稳定，在它的存在下，Boc和苄基可去保护。Fmoc的其他优点是它较易由简单的胺不通过水解来去保护，被保护的胺以游离碱释出。一般而言Fmoc对氢化稳定，但某些情况下，它可用H2/Pd-C在AcOH和MeOH仲脱去。Fmoc保护基可与酸脱去的保护基搭配而用于液相和固相的肽合成。

例子：

Piperidine (0.66 ml) was addede to a solution of compound 1 (0.797 g) in MeOH (10 ml) at room temperature. The reaction mixture was stirred at room temperature for 18 h, then concentrated and the resie was purified by alumina column chromatography (rthyl acetate/methanol = 10/1) to obtain compound 2 (0.382 g, 76%).