sem的样品

1、聚合物想测SEM，如何制作样品？

既然是看膜，就需要楼主决定要看自然状态下的膜，还是制品的膜形貌了，制品自然要按照工艺制膜。如果能够拿到膜，可以直接用聚合物膜粘在我提到的导电胶带上，处理方式和之前回答你的一样，喷金、引导电胶。

2、SEM扫描电镜图怎么看，图上各参数都代表什么意思

1、放大率：

与普通光学显微镜不同，在SEM中，是通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。如果需要更高的放大率，只需要扫描更小的一块面积就可以了。放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到。

所以，SEM中，透镜与放大率无关。

2、场深：

在SEM中，位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。这一小层的厚度称为场深，通常为几纳米厚，所以，SEM可以用于纳米级样品的三维成像。

3、作用体积：

电子束不仅仅与样品表层原子发生作用，它实际上与一定厚度范围内的样品原子发生作用，所以存在一个作用“体积”。

4、工作距离：

工作距离指从物镜到样品最高点的垂直距离。

如果增加工作距离，可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。如果减少工作距离，则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间。

5、成象：

次级电子和背散射电子可以用于成象，但后者不如前者，所以通常使用次级电子。

6、表面分析：

欧革电子、特征X射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关，所以可以用于成分分析。但由于电子束只能穿透样品表面很浅的一层（参见作用体积），所以只能用于表面分析。

表面分析以特征X射线分析最常用，所用到的探测器有两种：能谱分析仪与波谱分析仪。前者速度快但精度不高，后者非常精确，可以检测到“痕迹元素”的存在但耗时太长。

观察方法：

如果图像是规则的（具螺旋对称的活体高分子物质或结晶），则将电镜像放在光衍射计上可容易地观察图像的平行周期性。

尤其用光过滤法，即只留衍射像上有周期性的衍射斑，将其他部分遮蔽使重新衍射，则会得到背景干扰少的鲜明图像。

(2)sem的样品扩展资料：

SEM扫描电镜图的分析方法：

从干扰严重的电镜照片中找出真实图像的方法。在电镜照片中，有时因为背景干扰严重，只用肉眼观察不能判断出目的物的图像。

图像与其衍射像之间存在着数学的傅立叶变换关系，所以将电镜像用光度计扫描，使各点的浓淡数值化，将之进行傅立叶变换，便可求出衍射像〔衍射斑的强度（振幅的2乘）和其相位〕。

将其相位与从电子衍射或X射线衍射强度所得的振幅组合起来进行傅立叶变换，则会得到更鲜明的图像。此法对属于活体膜之一的紫膜等一些由二维结晶所成的材料特别适用。

扫描电镜从原理上讲就是利用聚焦得非常细的高能电子束在试样上扫描，激发出各种物理信息。通过对这些信息的接受、放大和显示成像，获得测试试样表面形貌的观察。

3、请问在SEM分析的样品需要抛光得很光滑么？

SEM抛光我想应该是要清洁一下表面，避免表面含有一些脏东西之类的，如果是要看组织，不仅最后不是抛光，而且做SEM之前还需要腐蚀，SEM的二次电子成像原理就是要求表面凹凸不平，如果抛光了的话就没办法看二次电子像了，只能用背散射看了

4、请问大家，SEM样品都是如何进行前处理的？

用乙醇分散一下，然后涂在导电胶上，最后用洗耳球吹一下，把多余的吹掉

5、请问在SEM分析的样品需要抛光得很光滑么? 请问做SEM之前,所需要处理的样品需要很光滑吗?

SEM抛光我想应该是要清洁一下表面,避免表面含有一些脏东西之类的,如果是内要看组织,不仅容最后不是抛光,而且做SEM之前还需要腐蚀,SEM的二次电子成像原理就是要求表面凹凸不平,如果抛光了的话就没办法看二次电子像了,只能用背散射看了

6、SEM 对于不同的样品 如何选择最优电压电流？

具体选择的电压需要根据具体样品来选择的，一般来讲金属和半导体可能中压10KV和5KV都可以，高分子最好选择5KV的低压，这样可以得到更好的图片效果。
以为高分子的导电性能很差，且容易被电压击穿，所以要选择低电压和快速照相模式的组合。
而金属和半导体，导电性能都还好，可以根据调试的效果自行选择电压来操作。
并没有硬性的规定金属，半导体，高分子具体要多少电压。这些都是需要根据具体的图像质量来不断调整的

7、扫描电镜sem和透射电镜tem对样品有何要求

透射电镜是用高能电子束（加速电压一般在200KV以上）照射样品，透过样品的电子由于样品厚度、元素、缺陷、晶体结构等的不同，会产生不同的花样或图像衬度，由此可以推测样品的相关信息。由于电子束要能透过样品，因此样品厚度要求很薄，一般要小于100纳米。如果要做高分辨，要求更薄。