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核磁sem保護基

發布時間:2020-08-16 01:58:01

1、關於有機合成中的一些常用保護基和位阻基團

BOC-L-苯丙氨酸(BOC-L-Phe-OH) 基團上面說了挺多的。 官能團保護:在甲苯上加鄰位硝基(或其它)時,會先用磺酸基佔住對位,算是保護對位;對於酮羰基和醛基的保護,大多用乙二醇和羰基反應,生成縮醛或縮酮,之後在酸性條件下水解脫保護。這兩個是有機合成中較常用的,具體操作要看情況。其實調整試劑,也可以避免因基團保護而產生的繁瑣操作。 至於位阻,看的是基團的體積,在空間中佔位的多少,從而影響到反應試劑對底物的進攻。體積越大,位阻越大。

2、關於核磁共振譜退結構,那個酯基-COO-我總是徘徊在-COO-和-OOC-之間,該怎麼分啊?

把兩個氧中間劃條線分開,然後分別從兩端連接基團處順著看,一般—CO一端原本是羧基而脫去的是—OH,—O一端原本是羥基而脫去的是—H。脫去的部分結合就能生成水了。

3、拋光矽片可以最SEM基底嗎

很多納米管、線等都是在類似的基體上生長,然後直接SEM觀察。
換句話說,只有納米材料才會考慮用拋光矽片做樣品載台。微米亞微米級別的,浪費,直接雙面導電膠帶粘即可。

4、保護基團的意義

簡單說,如果不保護,可能會發生副反應。導致無法得到目標分子。


在有機合成中,對於含有多個官能團的化合物, 除特定部位或基團發生預期反應外, 還常常導致其他部位或基團發生變化, 結果不僅使得反應產物變得復雜, 而且有時還會導致所需反應的失敗。最理想的合成路線是希望只在所需要的部位上發生反應,而其它部位不受任何干擾,為了解決這一問題,常常採取保護基團的策略,將作用物分子中不希望反應的敏感部位如羥基、羰基、氨基等用合適的保護基團掩蔽起來,待反應完成後再恢復原來的基團,這種方法就是有機合成中的基團保護。


舉一個例子:(只是看上去很復雜,其實很簡單)

比如我要用格氏試劑對綠色圈內的C=O進行加成反應,

那麼紅色箭頭的—OH就必須保護起來,否則將是—OH與格氏試劑反應,

而不是酯基與格氏試劑反應了

5、boc保護基是什麼

用飽和鹽酸的乙酸乙酯脫boc,脫出來的鹽酸鹽固體好像不對。熔點,核磁,液質連用都不對。不過我是異丙基肼上的胺一邊用boc保護的,現在想脫掉很難。樓主試出來後希望能分享一下。謝謝!

6、Cbz保護基怎麼脫掉?

1,最常用的方法是氫化,一個標准大氣壓,用甲醇做溶劑,反應過夜。
2,溴化氫和水做溶劑,一個小時結束。

7、PG是什麼保護基?

什麼意思?PG是控球後衛

8、Fmoc是什麼基團,怎麼脫保護

胺基保護基,一般以FMOC-CL形式存在。結構如下:

Fmoc保護基的一個主要的優點是它對酸極其穩定,在它的存在下,Boc和苄基可去保護。Fmoc的其他優點是它較易由簡單的胺不通過水解來去保護,被保護的胺以游離鹼釋出。一般而言Fmoc對氫化穩定,但某些情況下,它可用H2/Pd-C在AcOH和MeOH仲脫去。Fmoc保護基可與酸脫去的保護基搭配而用於液相和固相的肽合成。

例子:

Piperidine (0.66 ml) was addede to a solution of compound 1 (0.797 g) in MeOH (10 ml) at room temperature. The reaction mixture was stirred at room temperature for 18 h, then concentrated and the resie was purified by alumina column chromatography (rthyl acetate/methanol = 10/1) to obtain compound 2 (0.382 g, 76%).

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