1、電子掃描顯微鏡(SEM)的工作原理???
掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆 粒,成像信號可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是最主要的成像信號。由電子槍發射的能量為 5 ~ 35keV 的電子,以其交 叉斑作為電子源,經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細電子束,在掃描線圈驅動下,於試樣表面按一定時間、空間順 序作柵網式掃描。聚焦電子束與試樣相互作用,產生二次電子發射(以及其它物理信號),二次電子發射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號被探測器收集 轉換成電訊號,經視頻放大後輸入到顯像管柵極,調制與入射電子束同步掃描的顯像管亮度,得到反映試樣表面形貌的二次電子像。
示意圖:
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2、掃面電子顯微鏡sem分析主要做什麼 知乎
可以用來觀察精密物品表面形貌,可以分析元器件原子成分 比例。
比如可以做元器件失效分析
3、掃描電子顯微鏡(SEM)的電磁輻射危害
這個嘛。相當於。電焊的危害。想這樣的話。做好防護措施。就可以了。主要的是。對眼睛有些傷害吧
4、SEM、TEM、XRD、AES、STM、AFM的區別
SEM、TEM、XRD、AES、STM、AFM的區別主要是名稱不同、工作原理不同、作用不同、
一、名稱不同
1、SEM,英文全稱:Scanningelectronmicroscope,中文稱:掃描電子顯微鏡。
2、TEM,英文全稱:,中文稱:透射電子顯微鏡。
3、XRD,英文全稱:Diffractionofx-rays,中文稱:X射線衍射。
4、AES,英文全稱:AugerElectronSpectroscopy,中文稱:俄歇電子能譜。
5、STM,英文全稱:ScanningTunnelingMicroscope,中文稱:掃描隧道顯微鏡。
6、AFM,英文全稱:AtomicForceMicroscope,中文稱:原子力顯微鏡。
二、工作原理不同
1.掃描電子顯微鏡的原理是用高能電子束對樣品進行掃描,產生各種各樣的物理信息。通過接收、放大和顯示這些信息,可以觀察到試樣的表面形貌。
2.透射電子顯微鏡的整體工作原理如下:電子槍發出的電子束經過冷凝器在透鏡的光軸在真空通道,通過冷凝器,它將收斂到一個薄,明亮而均勻的光斑,輻照樣品室的樣品。通過樣品的電子束攜帶著樣品內部的結構信息。通過樣品緻密部分的電子數量較少,而通過稀疏部分的電子數量較多。
物鏡會聚焦點和一次放大後,電子束進入第二中間透鏡和第一、第二投影透鏡進行綜合放大成像。最後,將放大後的電子圖像投影到觀察室的熒光屏上。屏幕將電子圖像轉換成可視圖像供用戶觀察。
3、x射線衍射(XRD)的基本原理:當一束單色X射線入射晶體,因為水晶是由原子規則排列成一個細胞,規則的原子之間的距離和入射X射線波長具有相同的數量級,因此通過不同的原子散射X射線相互干涉,更影響一些特殊方向的X射線衍射,衍射線的位置和強度的空間分布,晶體結構密切相關。
4.入射的電子束和材料的作用可以激發原子內部的電子形成空穴。從填充孔到內殼層的轉變所釋放的能量可能以x射線的形式釋放出來,產生特徵性的x射線,也可能激發原子核外的另一個電子成為自由電子,即俄歇電子。
5.掃描隧道顯微鏡的工作原理非常簡單。一個小電荷被放在探頭上,電流從探頭流出,穿過材料,到達下表面。當探針通過單個原子時,通過探針的電流發生變化,這些變化被記錄下來。
電流在流經一個原子時漲落,從而非常詳細地描繪出它的輪廓。經過多次流動後,人們可以通過繪制電流的波動得到構成網格的單個原子的美麗圖畫。
6.原子力顯微鏡的工作原理:當原子間的距離減小到一定程度時,原子間作用力迅速增大。因此,樣品表面的高度可以直接由微探針的力轉換而來,從而獲得樣品表面形貌的信息。
三、不同的功能
1.掃描電子顯微鏡(SEM)是介於透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察方法,可以直接利用樣品表面材料的材料性質進行微觀成像。
掃描電子顯微鏡具有高倍放大功能,可連續調節20000~200000倍。它有一個大的景深,一個大的視野,一個立體的形象,它可以直接觀察到各種樣品在不均勻表面上的細微結構。
樣品制備很簡單。目前,所有的掃描電鏡設備都配備了x射線能譜儀,可以同時觀察微觀組織和形貌,分析微區成分。因此,它是當今非常有用的科學研究工具。
2.透射電子顯微鏡在材料科學和生物學中有著廣泛的應用。由於電子容易散射或被物體吸收,穿透率低,樣品的密度和厚度會影響最終成像質量。必須制備超薄的薄片,通常為50~100nm。
所以當你用透射電子顯微鏡觀察樣品時,你必須把它處理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對於液體樣品,通常掛在預處理過的銅線上觀察。
3X射線衍射檢測的重要手段的人們意識到自然,探索自然,尤其是在凝聚態物理、材料科學、生活、醫療、化工、地質、礦物學、環境科學、考古學、歷史、和許多其他領域發揮了積極作用,不斷拓展新領域、新方法層出不窮。
特別是隨著同步輻射源和自由電子激光的興起,x射線衍射的研究方法還在不斷擴展,如超高速x射線衍射、軟x射線顯微術、x射線吸收結構、共振非彈性x射線衍射、同步x射線層析顯微術等。這些新的X射線衍射檢測技術必將為各個學科注入新的活力。
4,俄歇電子在固體也經歷了頻繁的非彈性散射,可以逃避只是表面的固體表面原子層的俄歇電子,電子的能量通常是10~500電子伏特,他們的平均自由程很短,約5~20,所以俄歇電子能譜學調查是固體表面。
俄歇電子能譜通常採用電子束作為輻射源,可以進行聚焦和掃描。因此,俄歇電子能譜可用於表面微觀分析,並可直接從屏幕上獲得俄歇元素圖像。它是現代固體表面研究的有力工具,廣泛應用於各種材料的分析,催化、吸附、腐蝕、磨損等方面的研究。
5.當STM工作時,探頭將足夠接近樣品,以產生具有高度和空間限制的電子束。因此,STM具有很高的空間解析度,可以用於成像工作中的科學觀測。
STM在加工的過程中進行了表面上可以實時成像進行了表面形態,用於查找各種結構性缺陷和表面損傷,表面沉積和蝕刻方法建立或切斷電線,如消除缺陷,達到修復的目的,也可以用STM圖像檢查結果是好還是壞。
6.原子力顯微鏡的出現無疑促進了納米技術的發展。掃描探針顯微鏡,以原子力顯微鏡為代表,是一系列的顯微鏡,使用一個小探針來掃描樣品的表面,以提供高倍放大。Afm掃描可以提供各類樣品的表面狀態信息。
與傳統顯微鏡相比,原子力顯微鏡觀察樣品的表面的優勢高倍鏡下在大氣條件下,並且可以用於幾乎所有樣品(與某些表面光潔度要求)並可以獲得樣品表面的三維形貌圖像沒有任何其他的樣品制備。
掃描後的三維形貌圖像可進行粗糙度計算、厚度、步長、方框圖或粒度分析。
5、掃描電子顯微鏡(SEM)拍攝的格式是什麼
有TIF和JPG
TIF圖片通常2-3M大小,JPG格式通常幾百K,但是TIF帶有datebar,即放大倍數,掃描模式等信息,一般保存TIF格式
6、SEM掃描電鏡圖怎麼看,圖上各參數都代表什麼意思
1、放大率:
與普通光學顯微鏡不同,在SEM中,是通過控制掃描區域的大小來控制放大率的。如果需要更高的放大率,只需要掃描更小的一塊面積就可以了。放大率由屏幕/照片面積除以掃描面積得到。
所以,SEM中,透鏡與放大率無關。
2、場深:
在SEM中,位於焦平面上下的一小層區域內的樣品點都可以得到良好的會焦而成象。這一小層的厚度稱為場深,通常為幾納米厚,所以,SEM可以用於納米級樣品的三維成像。
3、作用體積:
電子束不僅僅與樣品表層原子發生作用,它實際上與一定厚度范圍內的樣品原子發生作用,所以存在一個作用「體積」。
4、工作距離:
工作距離指從物鏡到樣品最高點的垂直距離。
如果增加工作距離,可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場深。如果減少工作距離,則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的解析度。通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間。
5、成象:
次級電子和背散射電子可以用於成象,但後者不如前者,所以通常使用次級電子。
6、表面分析:
歐革電子、特徵X射線、背散射電子的產生過程均與樣品原子性質有關,所以可以用於成分分析。但由於電子束只能穿透樣品表面很淺的一層(參見作用體積),所以只能用於表面分析。
表面分析以特徵X射線分析最常用,所用到的探測器有兩種:能譜分析儀與波譜分析儀。前者速度快但精度不高,後者非常精確,可以檢測到「痕跡元素」的存在但耗時太長。
觀察方法:
如果圖像是規則的(具螺旋對稱的活體高分子物質或結晶),則將電鏡像放在光衍射計上可容易地觀察圖像的平行周期性。
尤其用光過濾法,即只留衍射像上有周期性的衍射斑,將其他部分遮蔽使重新衍射,則會得到背景干擾少的鮮明圖像。
(6)掃描電子顯微鏡sem的組成擴展資料:
SEM掃描電鏡圖的分析方法:
從干擾嚴重的電鏡照片中找出真實圖像的方法。在電鏡照片中,有時因為背景干擾嚴重,只用肉眼觀察不能判斷出目的物的圖像。
圖像與其衍射像之間存在著數學的傅立葉變換關系,所以將電鏡像用光度計掃描,使各點的濃淡數值化,將之進行傅立葉變換,便可求出衍射像〔衍射斑的強度(振幅的2乘)和其相位〕。
將其相位與從電子衍射或X射線衍射強度所得的振幅組合起來進行傅立葉變換,則會得到更鮮明的圖像。此法對屬於活體膜之一的紫膜等一些由二維結晶所成的材料特別適用。
掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理信息。通過對這些信息的接受、放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。
7、SEM與TEM的區別
SEM,全稱為掃描電子顯微鏡,又稱掃描電鏡,英文名Scanning Electronic Microscopy. TEM,全稱為透射電子顯微鏡,又稱透射電鏡,英文名Transmission Electron Microscope.
區別:
SEM的樣品中被激發出來的二次電子和背散射電子被收集而成像. TEM可以表徵樣品的質厚襯度,也可以表徵樣品的內部晶格結構。TEM的解析度比SEM要高一些。
SEM樣品要求不算嚴苛,而TEM樣品觀察的部分必須減薄到100nm厚度以下,一般做成直徑3mm的片,然後去做離子減薄,或雙噴(或者有厚度為20~40μm或者更少的薄區要求)。
TEM可以標定晶格常數,從而確定物相結構;SEM主要可以標定某一處的元素含量,但無法准確測定結構。