1、聚光器的作用是
聚光器的作用有二方面。一方面在未加底片前,能使放大紙獲得強烈而均勻的照度專,屬不出現光源本身結構(如燈絲等)的像;當加入底片後,能使放大紙上形成清晰的像。另一方面可增強放大紙上的照度。聚光部分提供的光能的能力跟光源本身的發光強度、光源的大小、聚光鏡組的孔徑角等因素有關。當發光強度一定時,光源面積越大,聚光鏡的孔徑越大,聚光器提供的光能量越多。照明系統所提供的光能量能否全部進入成像系統取決於兩者的成像關系。因此,必須恰當地安排物鏡、聚光器和物體的相互位置。為了使從光源發出的光通過聚光器的光束能夠全部到達像面,常採用所謂成中間像的方法來實現。光源通過聚光鏡組的光束成一中間像,在底片較小時,令中間像位於底片附近;當底片較大時令中間像位於放大鏡頭附近。下面以圖4-99為例來分析光源的光束通過聚光鏡組如何均勻分布於放大紙上。
2、電子掃描顯微鏡(SEM)的工作原理???
掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆 粒,成像信號可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是最主要的成像信號。由電子槍發射的能量為 5 ~ 35keV 的電子,以其交 叉斑作為電子源,經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細電子束,在掃描線圈驅動下,於試樣表面按一定時間、空間順 序作柵網式掃描。聚焦電子束與試樣相互作用,產生二次電子發射(以及其它物理信號),二次電子發射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號被探測器收集 轉換成電訊號,經視頻放大後輸入到顯像管柵極,調制與入射電子束同步掃描的顯像管亮度,得到反映試樣表面形貌的二次電子像。
示意圖:
http://www.science.globalsino.com/1/images/1science9682.jpg
3、聚光鏡的作用(簡略)
聚光器的作用有二方面。一方面在未加底片前,能使放大紙獲得強烈而均勻的照度,不出現回光源本身結構答(如燈絲等)的像;當加入底片後,能使放大紙上形成清晰的像。另一方面可增強放大紙上的照度。聚光部分提供的光能的能力跟光源本身的發光強度、光源的大小、聚光鏡組的孔徑角等因素有關。當發光強度一定時,光源面積越大,聚光鏡的孔徑越大,聚光器提供的光能量越多。照明系統所提供的光能量能否全部進入成像系統取決於兩者的成像關系。
4、SEM的作用有哪些?
1/目標精準,針對性強,直接為企業帶來客戶
2/ 按效果付費,獲得新客戶平均成本低
3/根據業務需求精準定位潛在客戶,如不同地域、不同時段、不同精準度等……幫助鎖定目標用戶群體
4/專業的推廣管理系統,功能豐富,管理靈活
5/ 多種詳細的統計報告,您客觀呈現推廣效果,分析優化要點,幫助您優化推廣效果
6/ 可以靈活掌握推廣力度,隨心管理、隨時調整推廣預算
5、光敏電阻實驗中2、4聚光鏡的作用分別是什麼?
光敏電阻(photoresistor or light-dependent resistor,後者縮寫為ldr)或光導管(photoconctor),常用的製作材料為硫化鎘,版另外還有權硒、硫化鋁、硫化鉛和硫化鉍等材料。這些製作材料具有在特定波長的光照射下,其阻值迅速減小的特性。這是由於光照產生的載流子都參與導電,在外加電場的作用下作漂移運動,電子奔向電源的正極,空穴奔向電源的負極,從而使光敏電阻器的阻值迅速下降。
6、顯微鏡上的聚光鏡有什麼作用?
聚光鏡又名聚光器,對於透射光顯微鏡,其裝在載物台的下方。小型的顯微鏡專往往無屬聚光鏡,在使用數值孔徑0.40以上的物鏡時,則必須具有聚光鏡。聚光鏡不僅可以彌補光量的不足和適當改變從光源射來的光的性質,而且將光線聚焦於被檢物體上,以得到最好的照明效果。對於反射光顯微鏡,其物鏡本身即是一個良好的聚光鏡。
7、透射電鏡中聚焦鏡,物鏡,中間鏡和投影鏡各自具有什麼功能和特點
1、聚焦鏡
聚光鏡處在電子槍的下方,一般由2~3級組成,從上至下依次稱為第1、第2聚光鏡(以C1 和C2表示)。關於電磁透鏡的結構和工作原理已經在上一節中介紹,電鏡中設置聚光鏡的用途是將電子槍發射出來的電子束流會聚成亮度均勻且照射范圍可調的光斑,投射在下面的樣品上。C1和C2的結構相似,但極靴形狀和工作電流不同,所以形成的磁場強度和用也不相同。C1為強磁場透鏡,C2為弱磁場透鏡,各級聚光鏡組合在一起使用,可以調節照明束斑的直徑大小,從而改變了照明亮度的強弱,在電鏡操縱面板上一般都設有對應的調節旋扭。C1、C2的工作原理是通過改變聚光透鏡線圈中的電流,來達到改變透鏡所形成的磁場強度的變化,磁場強度的變化(亦即折射率發生變化)能使電子束的會聚點上下移動,在樣品表面上電子束斑會聚得越小,能量越集中,亮度也越大;反之束斑發散,照射區域變大則亮度就減小。通過調整聚光鏡電流來改變照明亮度的方法,實際上是一個間接的調整方法,亮度的最大值受到電子束流量的限制。如想更大程度上改變照明亮度,只有通調整前面提到的電子槍中的柵極偏壓,才能從根本上改變電子束流的大小。在C2上通常 裝配有活動光闌,用以改變光束照明的孔徑角,一方面可以限制投射在樣品表面的照明區域,使樣品上無需觀察的部分免受電子束的轟擊損傷;另一方面也能減少散射電子等不利信號帶來的影響。
2、物鏡
處於樣品室下面,緊貼樣品台,是電鏡中的第1個成像元件,在物鏡上產生哪怕是極微小的誤差,都會經過多級高倍率放大而明顯地暴露出來,所以這是電鏡的一個最重要部件,決定了一台電鏡的分辨本領,可看作是電鏡的心臟。
(1)特點 物鏡是一塊強磁透鏡,焦距很短,對材料的質地純度、加工精度、使用中污染的狀況等工作條件都要求極高。致力於提高一台電鏡的解析度指標的核心問題,便是對物鏡的性能設計和工藝製作的綜合考核。盡可能地使之焦距短、像差小,又希望其空間大,便於樣品操作,但這中間存在著不少相互矛盾的環節。
(2)作用 進行初步成像放大,改變物鏡的工作電流,可以起到調節焦距的作用。電鏡操作面板上粗、細調焦旋扭,即為改變物鏡工作電流之用。
為滿足物鏡的前述要求,不僅要將樣品台設計在物鏡內部,以縮短物鏡焦距;還要配置良好的冷卻水管,以降低物鏡電流的熱飄移;此外,還裝有提高成像反差的可調活動光闌,及其要達到高解析度的消像散器。對於高性能的電子顯微鏡,都通過物鏡裝有以液氮為媒質的防污染冷阱,給樣品降溫。
3、中間鏡和投影鏡
在物鏡下方,依次設有中間鏡和第1投影鏡、第2投影鏡,以共同完成對物鏡成像的進一步放大任務。從結構上看,它們都是相類似的電磁透鏡,但由於各自的位置和作用不盡相同,故其工作參數、勵磁電流和焦距的長短也不相同。電鏡總放大率:
M=MO·MI·MP1·MP2
即為物鏡、中間鏡和投影鏡的各自放大率之積。當電鏡放大率在使用中需要變換時,就必須使它們的焦距長短相應做出變化,通常是改變靠中間鏡和第1投影鏡線圈的勵磁工作電流來達到的。電鏡操縱面板上放大率變換鈕即為控制中間鏡和投影鏡的電流之用。
對中間鏡和投影鏡這類放大成像透鏡的主要要求是:在盡可能縮短鏡筒高度的條件下,得到滿足高解析度所需的最高放大率,以及為尋找合適視野所需的最低放大率;可以進行電子衍射像分析,做選區衍射和小角度衍射等特殊觀察;同樣也希望它們的像差、畸變和軸上像散都盡可能地小。
8、SEM、TEM、XRD、AES、STM、AFM的區別
SEM、TEM、XRD、AES、STM、AFM的區別主要是名稱不同、工作原理不同、作用不同、
一、名稱不同
1、SEM,英文全稱:Scanningelectronmicroscope,中文稱:掃描電子顯微鏡。
2、TEM,英文全稱:,中文稱:透射電子顯微鏡。
3、XRD,英文全稱:Diffractionofx-rays,中文稱:X射線衍射。
4、AES,英文全稱:AugerElectronSpectroscopy,中文稱:俄歇電子能譜。
5、STM,英文全稱:ScanningTunnelingMicroscope,中文稱:掃描隧道顯微鏡。
6、AFM,英文全稱:AtomicForceMicroscope,中文稱:原子力顯微鏡。
二、工作原理不同
1.掃描電子顯微鏡的原理是用高能電子束對樣品進行掃描,產生各種各樣的物理信息。通過接收、放大和顯示這些信息,可以觀察到試樣的表面形貌。
2.透射電子顯微鏡的整體工作原理如下:電子槍發出的電子束經過冷凝器在透鏡的光軸在真空通道,通過冷凝器,它將收斂到一個薄,明亮而均勻的光斑,輻照樣品室的樣品。通過樣品的電子束攜帶著樣品內部的結構信息。通過樣品緻密部分的電子數量較少,而通過稀疏部分的電子數量較多。
物鏡會聚焦點和一次放大後,電子束進入第二中間透鏡和第一、第二投影透鏡進行綜合放大成像。最後,將放大後的電子圖像投影到觀察室的熒光屏上。屏幕將電子圖像轉換成可視圖像供用戶觀察。
3、x射線衍射(XRD)的基本原理:當一束單色X射線入射晶體,因為水晶是由原子規則排列成一個細胞,規則的原子之間的距離和入射X射線波長具有相同的數量級,因此通過不同的原子散射X射線相互干涉,更影響一些特殊方向的X射線衍射,衍射線的位置和強度的空間分布,晶體結構密切相關。
4.入射的電子束和材料的作用可以激發原子內部的電子形成空穴。從填充孔到內殼層的轉變所釋放的能量可能以x射線的形式釋放出來,產生特徵性的x射線,也可能激發原子核外的另一個電子成為自由電子,即俄歇電子。
5.掃描隧道顯微鏡的工作原理非常簡單。一個小電荷被放在探頭上,電流從探頭流出,穿過材料,到達下表面。當探針通過單個原子時,通過探針的電流發生變化,這些變化被記錄下來。
電流在流經一個原子時漲落,從而非常詳細地描繪出它的輪廓。經過多次流動後,人們可以通過繪制電流的波動得到構成網格的單個原子的美麗圖畫。
6.原子力顯微鏡的工作原理:當原子間的距離減小到一定程度時,原子間作用力迅速增大。因此,樣品表面的高度可以直接由微探針的力轉換而來,從而獲得樣品表面形貌的信息。
三、不同的功能
1.掃描電子顯微鏡(SEM)是介於透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察方法,可以直接利用樣品表面材料的材料性質進行微觀成像。
掃描電子顯微鏡具有高倍放大功能,可連續調節20000~200000倍。它有一個大的景深,一個大的視野,一個立體的形象,它可以直接觀察到各種樣品在不均勻表面上的細微結構。
樣品制備很簡單。目前,所有的掃描電鏡設備都配備了x射線能譜儀,可以同時觀察微觀組織和形貌,分析微區成分。因此,它是當今非常有用的科學研究工具。
2.透射電子顯微鏡在材料科學和生物學中有著廣泛的應用。由於電子容易散射或被物體吸收,穿透率低,樣品的密度和厚度會影響最終成像質量。必須制備超薄的薄片,通常為50~100nm。
所以當你用透射電子顯微鏡觀察樣品時,你必須把它處理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對於液體樣品,通常掛在預處理過的銅線上觀察。
3X射線衍射檢測的重要手段的人們意識到自然,探索自然,尤其是在凝聚態物理、材料科學、生活、醫療、化工、地質、礦物學、環境科學、考古學、歷史、和許多其他領域發揮了積極作用,不斷拓展新領域、新方法層出不窮。
特別是隨著同步輻射源和自由電子激光的興起,x射線衍射的研究方法還在不斷擴展,如超高速x射線衍射、軟x射線顯微術、x射線吸收結構、共振非彈性x射線衍射、同步x射線層析顯微術等。這些新的X射線衍射檢測技術必將為各個學科注入新的活力。
4,俄歇電子在固體也經歷了頻繁的非彈性散射,可以逃避只是表面的固體表面原子層的俄歇電子,電子的能量通常是10~500電子伏特,他們的平均自由程很短,約5~20,所以俄歇電子能譜學調查是固體表面。
俄歇電子能譜通常採用電子束作為輻射源,可以進行聚焦和掃描。因此,俄歇電子能譜可用於表面微觀分析,並可直接從屏幕上獲得俄歇元素圖像。它是現代固體表面研究的有力工具,廣泛應用於各種材料的分析,催化、吸附、腐蝕、磨損等方面的研究。
5.當STM工作時,探頭將足夠接近樣品,以產生具有高度和空間限制的電子束。因此,STM具有很高的空間解析度,可以用於成像工作中的科學觀測。
STM在加工的過程中進行了表面上可以實時成像進行了表面形態,用於查找各種結構性缺陷和表面損傷,表面沉積和蝕刻方法建立或切斷電線,如消除缺陷,達到修復的目的,也可以用STM圖像檢查結果是好還是壞。
6.原子力顯微鏡的出現無疑促進了納米技術的發展。掃描探針顯微鏡,以原子力顯微鏡為代表,是一系列的顯微鏡,使用一個小探針來掃描樣品的表面,以提供高倍放大。Afm掃描可以提供各類樣品的表面狀態信息。
與傳統顯微鏡相比,原子力顯微鏡觀察樣品的表面的優勢高倍鏡下在大氣條件下,並且可以用於幾乎所有樣品(與某些表面光潔度要求)並可以獲得樣品表面的三維形貌圖像沒有任何其他的樣品制備。
掃描後的三維形貌圖像可進行粗糙度計算、厚度、步長、方框圖或粒度分析。
9、什麼是聚光鏡
有會聚作用的透鏡