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sem掃描電鏡圖下方的參數

發布時間:2020-10-17 15:28:11

1、SEM掃描電鏡圖怎麼看,圖上各參數都代表什麼意思

1、放大率:

與普通光學顯微鏡不同,在SEM中,是通過控制掃描區域的大小來控制放大率的。如果需要更高的放大率,只需要掃描更小的一塊面積就可以了。放大率由屏幕/照片面積除以掃描面積得到。

所以,SEM中,透鏡與放大率無關。

2、場深:

在SEM中,位於焦平面上下的一小層區域內的樣品點都可以得到良好的會焦而成象。這一小層的厚度稱為場深,通常為幾納米厚,所以,SEM可以用於納米級樣品的三維成像。

3、作用體積:

電子束不僅僅與樣品表層原子發生作用,它實際上與一定厚度范圍內的樣品原子發生作用,所以存在一個作用「體積」。

4、工作距離:

工作距離指從物鏡到樣品最高點的垂直距離。

如果增加工作距離,可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場深。如果減少工作距離,則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的解析度。通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間。

5、成象:

次級電子和背散射電子可以用於成象,但後者不如前者,所以通常使用次級電子。

6、表面分析:

歐革電子、特徵X射線、背散射電子的產生過程均與樣品原子性質有關,所以可以用於成分分析。但由於電子束只能穿透樣品表面很淺的一層(參見作用體積),所以只能用於表面分析。

表面分析以特徵X射線分析最常用,所用到的探測器有兩種:能譜分析儀與波譜分析儀。前者速度快但精度不高,後者非常精確,可以檢測到「痕跡元素」的存在但耗時太長。

觀察方法:

如果圖像是規則的(具螺旋對稱的活體高分子物質或結晶),則將電鏡像放在光衍射計上可容易地觀察圖像的平行周期性。

尤其用光過濾法,即只留衍射像上有周期性的衍射斑,將其他部分遮蔽使重新衍射,則會得到背景干擾少的鮮明圖像。

(1)sem掃描電鏡圖下方的參數擴展資料:

SEM掃描電鏡圖的分析方法:

從干擾嚴重的電鏡照片中找出真實圖像的方法。在電鏡照片中,有時因為背景干擾嚴重,只用肉眼觀察不能判斷出目的物的圖像。

圖像與其衍射像之間存在著數學的傅立葉變換關系,所以將電鏡像用光度計掃描,使各點的濃淡數值化,將之進行傅立葉變換,便可求出衍射像〔衍射斑的強度(振幅的2乘)和其相位〕。

將其相位與從電子衍射或X射線衍射強度所得的振幅組合起來進行傅立葉變換,則會得到更鮮明的圖像。此法對屬於活體膜之一的紫膜等一些由二維結晶所成的材料特別適用。

掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理信息。通過對這些信息的接受、放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。

2、掃描電鏡圖片如何分析

第一、掃描電鏡照片是灰度圖像,分為二次電子像和背散射電子像,主要用於表面微觀形貌觀察或者表面元素分布觀察。
一般二次電子像主要反映樣品表面微觀形貌,基本和自然光反映的形貌一致,特殊情況需要對比分析。
背散射電子像主要反映樣品表面元素分布情況,越亮的區域,原子序數越高。
第二、看錶面形貌,電子成像,亮的區域高,暗的區域低。非常薄的薄膜,背散射電子會造成假像。導電性差時,電子積聚也會造成假像。

3、關於SEM掃描電鏡的幾個問題,求大神出現...

如果是即將開始學習儀器操作的管理人員,建議先系統學習理論知識,再找專業的儀器工程師培訓。如果是學生,要使用電鏡,從安全形度考慮,1、2、3幾項通常是值機人員完成的。我可以簡單的向你介紹一下:1、主要是電源,只要能正常開機,一般無問題;2、加高壓前一般要達到額定真空,否則氣體電離度大、損傷電子槍,但是電鏡軟體一般都已經設置好,不到工作真空,根本加不上去高壓,所以只要能夠加高壓,也無其他特別的問題;做完電鏡關閉高壓,等30秒以上,待燈絲冷卻後再放氣為宜,主要也是為了保護電子槍;3、樣品台有它的額定移動距離,包括平面方向和上下方向,平面方向移動到極限時會有報警提示,看到提示往回移動即可。高度方向也如此,但是要注意向上移動時,要緩慢,要防止堅硬的試樣撞擊上方的探測器和極靴,損壞設備;4,電子束與試樣作用,可激發出多種信號,如二次電子信號(用於形貌觀察),背散射電子信號(用於區分微區成分)、俄歇電子信號(用於表面元素分析)、特徵X射線(用於內部元素分析)、陰極熒光(用於發光材料研究),這些信號已經被有效的加以利用,這是一門獨立的學科,若需要詳細了解,你需要系統地學習一下。

4、掃描電鏡中的WD參數是什麼意思

掃描電鏡中的WD參數是工作距離,樣品成像表面到物鏡的距離。

介於透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。

掃描電鏡的優點是:

①有較高的放大倍數,2-20萬倍之間連續可調;

②有很大的景深,視野大,成像富有立體感,可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細微結構;

③試樣制備簡單。 目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析,因此它是當今十分有用的科學研究儀器。

(4)sem掃描電鏡圖下方的參數擴展資料

掃描電子顯微鏡的製造依據是電子與物質的相互作用。

掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理信息。通過對這些信息的接受、放大和顯示成像,獲得測試試樣表面形貌的觀察。

當一束極細的高能入射電子轟擊掃描樣品表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振盪(等離子體)。

從數量上看,彈性背反射電子遠比非彈性背反射電子所佔的份額多。 背反射電子的產生范圍在100nm-1mm深度。

背反射電子產額和二次電子產額與原子序數的關系背反射電子束成像解析度一般為50-200nm(與電子束斑直徑相當)。背反射電子的產額隨原子序數的增加而增加,所以,利用背反射電子作為成像信號不僅能分析形貌特徵,也可以用來顯示原子序數襯度,定性進行成分分析。

5、sem掃描電鏡 圖像 12.2mm*5.0k 1.0微米指的是10個格子還是1個格子

10個格子這種標尺常見於日立電鏡,對應的數值指的是10個格子總長度

6、掃描電鏡觀察的鋰離子電池材料圖片,求解釋最下面一行各字母和數字的含義

SE 指這是二次電子檢測器成的像(二次電子像)
WD 5.3mm 指工作距離為5.3mm (樣品表面到物鏡的距離大約5.3mm)
x1.0k 指這時的標稱放大倍數為1千倍
50um 是指標尺長度為50um,即每一小格為5um

7、掃描電鏡圖下的工作距離大小有影響嗎

有。
以蔡司電鏡為例,
電鏡探頭分為內置SE、側邊SE、AsB、EBSD等等,還有EDS
1、內置SE:工作距離越小越好
2、側邊SE:工作距離適中,不能太大也不能太小
3、AsB:工作距離越小越好
4、EBSD:工作距離越小越好
5、EDS:有規定的工作距離
其他電鏡類似

8、求大神幫忙分析下SEM掃描電鏡圖片

確實沒有任何」大神「能夠分析你提供的圖片。要分析一張電鏡圖片有很多前提:你所分析的對象是什麼?目的是什麼?在什麼條件下取樣?在什麼情況下取照?照該視場的目的想說明什麼?~~等等等等。否則,一張微觀世界裡的照片,你能夠指望別人評論什麼?
看來,你還是比較外行。
如果你是真心想要提問,請將照片的具體情況交代清楚,好嗎?

9、掃描電鏡所照的圖片,圖片右下角的—50微米表示什麼意思

是bar(標尺)的意思。表示一那麼長是等於50微米,給你個對照而已。
因為不同放大倍數的顯微鏡拍出來的圖不一樣,但有了標尺你就可以知道尺度信息。

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